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真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱振動能量超過表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場的作用下的高速運(yùn)動轟擊作為陰極的靶，使靶材中的原子或分子逸出來而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。
真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法，其優(yōu)點(diǎn)是加熱源的結(jié)構(gòu)簡單，造價低廉，操作方便；缺點(diǎn)是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點(diǎn)。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱，電子束的動能變成熱能，使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源，但由于大功率激光器的造價很高，目前只能在少數(shù)研究性實(shí)驗(yàn)室中使用。
濺射技術(shù)與真空蒸發(fā)技術(shù)有所不同?！盀R射”是指荷能粒子轟擊固體表面（靶），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài)，常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子，離子或中性粒子，因?yàn)殡x子在電場下易于加速獲得所需要動能，因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過程建立在輝光放電的基礎(chǔ)上，即濺射離子都來源于氣體放電。不同的濺射技術(shù)所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電；三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電；射頻濺射是利用射頻輝光放電；磁控濺射是利用環(huán)狀磁場控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜相比，有許多優(yōu)點(diǎn)。如任何物質(zhì)均可以濺射，尤其是高熔點(diǎn)，低蒸氣壓的元素和化合物；濺射膜與基板之間的附著性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重復(fù)性好等。缺點(diǎn)是設(shè)備比較復(fù)雜，需要高壓裝置。此外，將蒸發(fā)法與濺射法相結(jié)合，即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點(diǎn)是得到的膜與基板間有極強(qiáng)的附著力，有較高的沉積速率，膜的密度高。
彩色鍍鋁膜特點(diǎn)：
鍍鋁層的附著力強(qiáng),亮度較好，有良好的阻隔作用
1.適宜的阻隔性與滲透性好—包括阻氣包裝、防潮包裝、防水包裝、保香包裝。易于包裝因氧氣、水分作用而氧化變質(zhì)、發(fā)霉腐爛的食品等材料。化學(xué)穩(wěn)定性好，
2.對一般的酸、堿、鹽等介質(zhì)有良好的抗耐能力，較之金屬包裝有很強(qiáng)的優(yōu)勢。光學(xué)性能優(yōu)良，具有很好的透明性可以清楚地看內(nèi)裝物，起到良好的展示、促銷效果。
3.還能染上美麗的圖形、印刷上裝潢圖案。還可以高速自動成型、灌裝、熱封，生產(chǎn)。
咸寧市華福包裝材料有限公司主要生產(chǎn)和經(jīng)營高真空鍍鋁紙（啤酒標(biāo)用鍍鋁紙、禮品包裝用鍍鋁紙和煙盒內(nèi)襯用鍍鋁紙）、鐳射紙,雙向拉伸聚酯鍍鋁膜（VMPET），雙向拉伸聚酯彩色鍍鋁膜（COLORED VMBOPET），鍍鋁扭結(jié)膜以及鍍鋁無紡布，鐳射紙，急救毯，pet金膜等。
華福包裝材料公司一如既往地嚴(yán)格控制產(chǎn)品質(zhì)量，優(yōu)化客戶服務(wù)體系。通過批發(fā)將鍍鋁膜銷往全國各地。本著以質(zhì)取勝、以人為本、精益求精、嚴(yán)格管理的方針，大力加強(qiáng)科技投入，資源配置和新產(chǎn)品開發(fā)，為需求群體提供的鍍鋁膜，努力擴(kuò)大市場網(wǎng)絡(luò)，爭創(chuàng)國內(nèi)實(shí)力產(chǎn)品。將陸運(yùn)作為主打物流方式，本公司以適宜的價格和快捷的配送方式做到全l面滿足客戶的需求。
作為是目前湖北省品種齊全，質(zhì)量良好，供貨量大，銷售范圍廣泛的鍍鋁膜生產(chǎn)及銷售商之一，華福包裝材料公司供應(yīng)的鍍鋁膜不僅具有用于醫(yī)l藥、食品、包裝的用途，為了更好地貼近市場和服務(wù)客戶，依據(jù)客戶的個性需求單獨(dú)設(shè)計(jì)和快捷提供方案，并定向供貨。競爭優(yōu)勢更強(qiáng)，因而倍受歡迎。
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